이효주
(Hyojoo Lee)
aiD
이용호
(Yongho Lee)
biD
박대원
(Daewon Pak)
c†iD
-
서울과학기술대학교 에너지환경공학과
(Department of Environmental and Energy Engineering, Seoul National University of Science
and Technology)
© Korean Society on Water Quality. All rights reserved.
Key words
Anodization, Crystal forms, OH radical, Photocatalyst, TiO2 nanotube
1. Introduction
시대가 발전할수록 증가하는 인구수와 산업 활동으로 인한 환경오염을 처리하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 오 염 물질을 처리하기 위해 크게 물리적,
생물학적, 화학적 방 법이 존재한다(Kim, 2018). 이 중 화학적 처리 공법 중 하나 인 Advanced Oxidation Process (AOP) 기술은 자외선, 염소, 오존 등의 기존의 산화처리의
한계를 극복하기 위해 개발된 기술로서, 반응 후에도 독성을 남기지 않으며 강력한 살균력 과 산화력을 가진다. 광촉매 반응을 이용한 AOP 기술은 2차
오염물질이 없어 환경 친화적이며 강력한 산화력을 가진 OH radical을 생성한다는 점에서 다양한 수처리 기술에 적용되고 있다(Kim et al., 2017). AOP 기술에서 발생되는 OH radical 은 화학적 반응성이 매우 크기 때문에 선택성 없이 반응해, 높은 효율을 가진다. 주로, 과산화수소나
오존 같은 산화제 를 사용하거나, UV/TiO2, electron beam과 같이 빛이나 고에 너지파를 사용하여 OH radical을 생성한다고 문헌에 나와 있 다(Lee, 2001).
TiO2 외에 주로 사용되는 광촉매는 ZnO, Fe2O3, WO3, SnO2, anatase-TiO2, rutile-TiO2 등이 있으며 (Ola and Valer, 2015), 서로 다른 band gap energy를 가진다. 본 연구에서는 UV/TiO2 방법을 이용하고자 한다. TiO2 광촉매는 band gap energy 이상의 광에너지를 받으면, 가전자대(valence band)의 전자(e-)가 전도대(conduction band)로 여기 되어 전자가 생 기고 가전자대에는 정공(h+)이 생성된다. 전자와 정공이 각각 표면으로 이동하여 전자는 인접한 산소분자와 결합하여 O2- 를 생성하고 정공은 H2O와 결합하여 OH radical을 생성한 다. 광촉매의 Band gap energy가 작을수록 전자-정공쌍의 분 리가 쉽게 일어나지만 재결합 또한
빠르게 진행되기 때문에 광촉매 역할로서 가장 효율적인 band gap energy를 갖는 광 촉매 연구가 가장 많이 진행되고 있다(Kim, 2014; Lee, 2016; Yao et al., 2019).
TiO2는 anatase, rutile, brookite의 3가지의 결정상을 가지며 brookite 구조의 생성을 위해서는 매우 높은 온도를 필요로 하며
상당히 불안정해 anatase상과 rutile상이 가장 일반적으 로 사용되어지고 있다. Anatase상은 다른 두 가지 형태보다 더 높은 광학적 활성을
가지며 band gap energy는 3.2eV로 UV 영역에서 388nm의 이하에서 반응하며 rutile상은 anatase 구조보다 약간 낮은 3.0eV의
band gap energy를 가지고 가시 광선 영역인 415nm 이하에서 반응한다(Koo, 2015).
Rutile상이 anatase상보다 더 안정적이지만 anatase상의 TiO2가 태양 전지 및 광촉매와 같은 응용 분야에 더 효율적 이며, 대기 및 정수, 폐수 처리 시 가장 효율적임이 입증되었 다. 하지만 순수한 anatase
TiO2 광촉매보다 anatase와 rutile 상이 결합된 TiO2 광촉매가 더 활성이 높은 촉매역할을 한다 는 연구가 있다(Kim, 2018; Kim, 2005). 두 상을 결합함으로 서 전자 정공 분리를 더 향상시킬 수 있고 rutile 구조에서 문제되는 빠른 전자정공의 재결합을 억제할 수 있다. 두 상
이 결합된 TiO2는 광촉매의 특성을 그대로 유지하면서 결정 상만 변화시켜 간단한 방법으로 효율을 향상시키는 방법이 다. 따라서 두 결정상의 적절한 비율을 찾아 보다
효율적이 고 향상된 TiO2 광촉매를 얻는 것이 중요하다(Jarosz et al, 2015; Liu, et al, 2007).
두 결정상을 혼합한 TiO2 nanotube로서 열처리 온도와 시간에 따른 anatase상과 rutile상을 혼합한 연구가 particle이나 film 형 태로 다양하게 있지만(Fang, et al, 2011; Jaroenworaluck, et al, 2010; Li et al, 2009; Regonini, et al, 2010; Yang, et al, 2008; Yu and Wang, 2010), plate 형태의 연구는 전무한 실정이다. 따라서 본 연구에서는 plate 형태의 TiO2 nantube를 온도별로 열처리하여 두 결정상이 혼합된 광촉매를 제조하여 결정상 혼 합비에 따른 OH radical 생성량을 비교하고자하였다.
2. Materials and Methods
2.1. Preparation of TiO2 nanotube plate
양극으로 50 mm × 50 mm 크기에 22 mm의 타공이 있는 titanium plate (purity 99.8%)와 음극으로는 50 mm ×
80 mm 크기의 platinum mesh를 사용했다. Titanium plate는 표 면 세척을 위해 acetone, ethyl alcohol,
deionized water로 각 각 10분 씩 초음파 처리해주었다. 양극산화 시 전해질은 2 vol% H2O와 0.2 wt% NH4F가 포함된 Ethylene glycol 용액 을 전해질로 사용하였고, 정류기는 XG150-10 (AMETEK, USA)를
사용하였다. 양극산화는 500 mL의 크기의 이중자켓 에 cooling bath를 연결하여 전해질의 온도를 초기온도로 유 지시켜주며, 150 rpm으로
교반하여 진행하였다. 양극산화 후 TiO2 표면에 남아있는 전해질을 제거하기 위해 ethyl alcohol 에 침지하여 2분간 초음파 처리하여 실온 건조하였다. 결정 상 비율에 따른 OH
radical 생성량을 비교하기 위해 열처리 를 회화로 (Electric muffle furnace, JISICO, J-FM38, Korea) 를
사용하였다. 열처리 온도를 400 °C ~ 900 °C의 범위에서 100 °C차이를 두어 실험을 진행하였다.
2.2. Morphology analysis of TiO2 nanotube plate
양극산화 시 titanium plate에 인가되는 전압과 양극산화 시간 그리고 전해질 구성 성분 농도에 따라 nanotube의 형태 와 길이에 영향을
미치기 때문에 열처리 온도외의 조건은 모 두 동일하게 진행했다. 열처리 외에 조건이 모두 동일하게 양극산화하여 제작한 TiO2 광촉매가 열처리 온도가 달라도 비슷한 길이와 기공의 nanotube 형태를 나타내는지 확인하 기위해 Scanning Electron Microscope
(SEM, TESCAN VEGA3, U.S.A) 분석을 진행하였다. X-ray Dffractometer (XRD, Bruker DE/D8 Advanced,
독일)를 이용하여 열처리 과정인 annealing 과정 전 후의 TiO2 nanotube plate와, Titanium plate 결정상 구조와 비율을 비교했다. scan range는 20 ~ 80°로 하였다. Diffuse
Reflectance-Ultaraviolet/Visible spectrometer (DR-UV/Vis, SCINCO S-4100, Korea)를 이용
하여 결정상 비율에 따른 TiO2를 200~800nm의 파장에서 흡 광도를 측정하였다.
2.3. Analytical method of OH radical production
결정상 비율이 다른 TiO2의 OH radical 생성량을 평가하기 위해 OH radical probe compound인 4-Chlorobenzoic acid 100 ppm
용액을 이용하였다. OH radical 생성량 분석을 위 해 124 mL 부피의 아크릴 반응기를 제조하였다. TiO2 nanotube plate 광촉매 1개를 사용하였으며, 광촉매 하단에서 교반할 공간을 위해 반응기의 높이가 TiO2 nanotube plate 크 기보다 긴 형태로 가로 50 mm, 세로 70 mm, 그리고 UVC lamp (Sankyo Denki G8T5, 8
W, 254nm, Japen)를 이용하기 위해 석영관이 들어갈 수 있도록 반응기 옆면 중앙에 22 mm의 구멍을 내었다. 반응기의 구멍에 전해질의
손실을 막 기 위해 UV 빛이 통과하는 석영관을 고무 재질의 O-ring을 끼워 반응기에 고정시킨 후 UV lamp를 사용하여 실험을 진 행하였다.
4-Chlorobenzoic acid 농도 감소율 실험시간은 60 분으로 하였으며 10분마다 샘플을 채취하여 HPLC (UV detector, Younglin,
Korea)에 column은 ZORBAX SB-aq (Agilent, 4.6 mm × 250 mm, U.S.A)을 사용하였다. 이동상 은 40 %
acetonitrile / 60 % 0.2 % phosphate buffer (flow rate : 1 mL, UV = 254 nm)를 사용하여 농도
변화를 확인하 였다.
OH radical 생성량 계산 방법은 다음에 나열된 식 (1)과 같다.
식 (4)의 분해속도 상수 kpCBA.obs는 식 (3)에서 4-Chlorobenzoic acid 분해율과 시간에 따른 semi-log plot의 기울기로부터 값을 구할 수 있다 (Koo, 2015; Lee, 2016). OH radical의 probe compound인 4-Chlorobenzoic acid의 OH radical과의 반응속도 는 kOH.pCBA는 5 × 109 M-1S-1로 오존(kO3/pCBA=1×10-1 M-1S-1) 및 다른 산화제보다 OH radical과의 반응성이 높다.
3. Results and Discussion
3.1. 양극산화 시간에 따른 TiO2 morphology 관찰
양극산화를 15시간 동안 60V의 전압을 인가해 주어 제작 한 TiO2 nanotube의 길이는 Fig. 1과 같다. Fig. 1을 보면 rutile 결정상의 비율이 높을수록 TiO2 nanotube의 관형구조 가 손상됨을 확인했다. 이를 확인하기 위해 TiO2 nanotube의 측면을 더 확대하여 분석한 결과 Fig. 2와 같다. 400 °C에서 열처리한 nanotube 형태는 곧은 기둥 형태이나, rutile상이 나 타나는 700 °C부터 nanotube 형태가
변하며 관형구조인 nanotube 구조가 변한다. 이러한 nanotube의 변화에 대해 anatase에서 rutile상으로 상전이에 의해 구조가 변한
것이라 는 연구가 있다(Fang et al, 2011).
Fig. 1. Top and cross-section of TiO2nanotube plate annealed at different temperatures : (a) 400 °C (100 % anatase), (b) 500 °C (100 % anatase), (c) 600 °C (100 % anatase), (d) 700 °C (18.4% rutile) (e) 800 °C (36.6% rutile), and (f) 900 °C (98.6% rutile).
Fig. 2. Cross-section of TiO2nanotube plate annealed at different temperatures : (a) 400 °C (100 % anatase), (b) 500 °C (100 % anatase), (c) 600 °C (100 % anatase), (d) 700 °C (18.4% rutile) (e) 800 °C (36.6% rutile), and (f) 900 °C (98.6% rutile).
3.2. 열처리 온도에 따른 TiO2 결정상 및 흡광도 분석
Fig. 3은 TiO2 nanotube의 결정상을 확인하기 위한 XRD 분석 결과이다. 열처리 과정을 거치지 않은 TiO2는 titanium 만 분석되었으며 결정상은 없었다. 400 °C ~ 600 °C에서 열처 리된 TiO2는 102, 112, 200의 면지수에서 anatase상이 가장 높은 피크로 나타났으며 열처리 온도가 상승할수록 anatase 상의 피크는 감소하면서
rutile상의 피크가 증가하였다. 110 과 101 면지수에서 rutile상이 가장 높게 관찰되었다. 결정상 비율은 400 °C ~ 600 °C에서
열처리된 TiO2는 100 % anatase, 700 °C에서는 81.6 % anatase, 18.4 % rutile, 800 °C에서는 63.4 % anatase,
36.6 % rutile, 900 °C에서는 1.4 % anatase, 98.6 % rutile의 결정상을 얻었다.
Fig. 3. XRD of (a) Titanium plate, (b) no annealed TiO2, (c) TiO2annealed at 400 °C (100 % anatase), (d) TiO2annealed at 500 °C (100 % anatase), (e) TiO2annealed at 600 °C (100 % anatase), (f) TiO2annealed at 700 °C (18.4% rutile), (g) TiO2annealed at 800 °C (36.6% rutile), (h) TiO2annealed at 900 °C (98.6% rutile).
Fig. 4는 Fig. 3의 XRD 분석 결과를 토대로 400 °C ~ 900 °C에서 열처리한 TiO2 광촉매의 결정상 비율을 그래프로 나 타낸 것이다. 400 °C ~ 900 °C에서 열처리한 TiO2 광촉매에서 는 주로 anatase상이 관찰되었고, 700 °C부터 rutile상도 함께 관찰되었다. 따라서, 600 °C 이하의 온도에서 열처리한
TiO2 nanotube는 rutile 상이 없는 100 % anatase상을 가짐을 확인 하였다.
Fig. 4. Anatase and rutile ratio of TiO2nanotube annealed at (a) 400 °C (100 % anatase), (b) 500 °C (100 % anatase), (c) 600 °C (100 % anatase), (d) 700 °C (18.4% rutile) (e) 800 °C (36.6% rutile), (f) 900 °C (98.6% rutile).
열처리 온도에 변화를 주어 광촉매의 결정상 비율을 다르 게 얻었으며, Fig. 5는 TiO2 광촉매 흡광도를 비교한 그래프 이다. 그래프를 보면 가장 높은 흡광도를 보이는 파장이 100% anatase-TiO2는 334nm 부근이며, 18.4% rutile-TiO2는 346nm, 36.6% rutile-TiO2는 348nm, 98.6% rutile-TiO2는 390nm 로 나타났다. 이를 통해 rutile 비율이 높을수록 광촉 매의 흡광도 파장이 최소 42 nm, 최대 55nm 장파장으로 이 동함을
확인하였다.
Fig. 5. UV-Vis absorbance according to anatase and rutile ratio of TiO2nanotube.
3.3. TiO2 nanotube 결정상 구성에 따른 OH radical 생성 비교
OH radical 생성량을 계산에 필요한 kpCBA,obs를 구하기 위해 4-Chlorobenzoic acid 농도 변화에 대한 ln[pCBA]0/[pCBA]의 semi-log plot 그래프로 나타낸 것이다. 그래프는 originPro8.0 프로그램을 이용하여 나타내었다.
Fig. 6에서 얻은 semi-log plot의 기울기 값과 반응한 시간 을 식 (1)에 따라 계산하여 얻은 OH radical 생성 결과는 Fig. 7과 같다. 18.4 % rutile-TiO2 광촉매의 OH radical 생성 량이 7.76E-16M로, UV lamp를 단독으로 사용했을 때 생성 된 OH radical 생성량인 2.04E-16M보다
약 3.8배 높다. 100 % anatase-TiO2 중 가장 높은 OH radical 생성량의 5.37M보 다 약 1.4배 높다. 이는 anatase 결정구조보다 낮은 band gap energy를
가지는 rutile 결정구조가 혼재함으로서 전자-정공 의 분리가 향상되어 광촉매 능력이 향상되었다고 판단된다. 36.6 % rutile-TiO2와 98.6 % rutile-TiO2는 18.4 % rutile-TiO2 보다 OH radical 생성량이 낮은데 이는 빛의 조사에 의해 발 생한 전자와 정공의 재결합이 빠르게 일어나는 rutile상의 특 성 (Koo, 2015) 때문이라고 판단된다. 따라서 본 연구에서 18.4 % rutile상이 혼합된 TiO2 광촉매가 100% anatase– TiO2보다 OH radical 생성량이 높아 두 결정구조를 혼합함으 로서 광촉매의 활성이 향상되었다고 판단된다.
Fig. 6. Linear relationship between ln([pCBA]0/[pCBA]) and reaction time: (only UV □, 100% anatase-TiO2(annealed at 400 °C ○, 500 °C △, 600°C ▽), 18.4% rutile-TiO2(annealed at 700 °C ◁), 36.6% rutile-TiO2(annealed at 800 °C ▷), and 98.6% rutile-TiO2(annealed at 900 °C ◇))
Fig. 7. Comparison of OH radical generation depending on anatase to rutile ratio
4. Conclusion
-
양극산화를 통해 제조된 TiO2 nanotube 광촉매의 열처리 온도에 따른 결정상 형태를 분석한 결과, 열처리 온도가 증가 하면서 anatase상에서 rutile상으로 상이 전환됨을
관찰할 수 있었다. 700 °C 이상의 온도에서 열처리한 TiO2 nanotube 형 태에서는 관형구조가 손상되는 결과를 보였으며 TiO2 nanotube plate의 결정상이 anatase에서 rutile상으로 변하는 온도는 600 ~ 700 °C 사이임을 알 수 있었다.
-
TiO2 nanotube의 결정상 비율에 따른 광촉매 활성을 비 교하고자 열처리 온도를 400 °C ~ 900 °C로 100 °C의 차이를 두어 실험을 진행한
결과, 열처리 온도가 400 °C ~ 600 °C 일 때 anatase 결정상만 분석되었고, 700 °C 이상의 온도에서 rutile 결정상이 점차
증가되었다. 400 °C에서 열처리된 TiO2 는 102, 112, 200의 면지수에서 anatase상의 피크가 가장 높 이 나타났으며 열처리 온도가 상승할수록 anatase상 피크는 감소하면서
rutile상의 피크가 상승하였고, rutile상은 110과 101 면지수에서 가장 높게 관찰되었다.
-
OH 라디칼 발생량을 측정한 결과 18.4 %의 rutile 결정 상 비율을 가지는 TiO2가 열처리 전보다 약 3.8배, 400 °C에 서 열처리한 TiO2보다 1.4배 많은 OH radical이 생성됐다. 그리고 36.6 % rutile 결정상 비율을 가진 TiO2보다 1.4배, 98.6 % rutile 결정상 비율을 가진 TiO2보다는 2.5배 많은 OH radical이 생성됐다. 따라서 18.4%의 rutile 결정상 비율 을 가지는 TiO2의 광촉매 활성도가 가장 높은 것으로 나타났 으며, 이는 TiO2 광촉매가 일정 비율의 rutile 결정상이 포함 될 때 anatase 결정구조만 있는 TiO2 보다 광촉매 활성이 높 다 가능성을 입증한 결과로 판단된다.
Acknowledgement
본 연구는 서울과학기술대학교 교내 지원을 받아 수행되었 습니다. 이에 감사드립니다.
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